王春冬  厉晓华张  云秀
（中芯国际集成电路制造（上海）有限公司， 上海  201203）

        摘要  随着半导体制造先进制程的推进，废水中双氧水的浓度不断上升，造成了总排放口COD偏高。采用锰催化还原工艺处理高浓度含双氧水废水，工程实践表明：在进水双氧水浓度达到3 000 mg/L以上时，将pH调至10.5~11.5，控制锰砂塔流速7~8 m/s，反应3 min，双氧水的去除率可以达到99%以上，总排放口COD由355 mg/L降至150 mg/L。
        关键词  半导体废水  双氧水  锰砂  催化还原